Введение продукта

Гальваника – это процесс, в котором для обработки поверхности деталей используется метод точечного решения. При гальванике детали обрабатываются как аноды, и ионы металлов в гальваническом растворе осаждаются на поверхности деталей под действием постоянного тока, образуя однородное и плотное металлическое покрытие. Оборудование для гальванического процесса — это производственный процесс, осуществляемый в гальваническом цехе, который можно разделить на три этапа: предварительная обработка поверхности, гальваническая обработка и последующая обработка. Оборудование для гальванического процесса обычно относится к производственному оборудованию, которое непосредственно обрабатывает детали. Основные процессы предварительной обработки поверхности включают шлифовку, полировку, чистку щеткой, прокатку, пескоструйную обработку, обезжиривание, удаление ржавчины, коррозию, нейтрализацию и очистку.

Оборудование, используемое в процессе гальваники, в основном включает в себя различные типы фиксированных пазов, пазов для подвижного покрытия, подвесных приспособлений, подвесных корзин и т. д. Последующая обработка - это процесс полировки, полировки, пассивации, окраски, сушки, герметизации и дегидрирования деталей. . Линия по производству подвесных обшивок портального типа выбирает один или несколько процессов по мере необходимости, чтобы гарантировать соответствие деталей требованиям качества. Обычно используемое оборудование для постметаллической обработки включает в себя шлифовальные и полировальные станки, а также различные типы фиксированных канавок.

Параметры продукта

1. Между покрытием и основным металлом, а также между покрытиями должна быть хорошая адгезия.

2. Покрытие должно быть мелкокристаллизованным, а линия по производству подвесного покрытия должна быть гладкой и однородной по толщине.

3. Покрытие должно иметь заданную толщину и как можно меньше пор.

4. Покрытие должно иметь заданные показатели, такие как яркость, твердость, проводимость и т.п.

5. Температура окружающей среды колеблется от -от 10 ℃ до 60 ℃;

6. Входное напряжение 220 В. ± 22 В или 380 В ± 38В;

7. Максимальный рабочий шум водоочистного оборудования не должен превышать 80 дБ. (А).

8. Относительная влажность (относительной влажности) не должно превышать 95%;

9. Содержание ХПК в сырой воде составляет от 100 мг./л и 150000мг/Л.

10. Время и температура гальваники в процессе гальваники определяют толщину покрытия.